Beschreibung
Osram HBO 1750 W/NIL – Mikrolithografie-Lampe für Nikon-i-Line-Systeme, SFc27-7/35
Speziell für Nikon-i-Line-Belichtungssysteme in der Mikrolithografie hat Osram die HBO 2002 W/NIL entwickelt. Mit einer Leistung von 1.750 W liefert diese Quecksilber-Kurzbogenlampe die hohe spektrale Intensität mit Spitzenstrahlung bei 365 nm, die für präzise Belichtungsprozesse benötigt wird.
Die Lampe trägt den Sockel SFc27-7/35 und ist mit Nikon-Systemen qualifiziert.
Einsatzbereiche
Die HBO 2002 W/NIL ist ausschließlich für die Mikrolithografie ausgelegt, insbesondere für Nikon-i-Line-Belichtungssysteme in der industriellen Halbleiterfertigung.
Vorteile im Alltag
Die hohe spektrale Intensität bei 365 nm Wellenlänge sorgt für präzise, reproduzierbare Belichtungsergebnisse. Da die Lampe eigens für den langfristigen Einsatz konzipiert und mit Nikon-Systemen qualifiziert ist, lässt sie sich direkt in bestehende i-Line-Anlagen integrieren, ohne dass zusätzliche Anpassungen nötig wären.
Technik in Kürze
Die Lampe leistet 1.750 W bei rund 26 V Nennspannung. Der Kolbendurchmesser beträgt 999 mm bei einer Gesamtlänge von 254 mm und einer Baulänge von 232 mm; der Lichtschwerpunkt liegt bei rund 107,75 mm. Das Nettogewicht beträgt 530 Gramm.
Kompatibilität und Hinweise
Die HBO 2002 W/NIL ist mit dem Sockel SFc27-7/35 ausschließlich für Nikon-i-Line-Mikrolithografiesysteme mit passendem Betriebsgerät vorgesehen und nicht universell einsetzbar.
Fazit
Als spezialisierte Mikrolithografie-Lampe mit hoher Leistung und Qualifikation für Nikon-i-Line-Systeme richtet sich die HBO 2002 W/NIL an industrielle Präzisionsanwendungen.
Kurz zusammengefasst:
- 1.750 W Leistung mit Spitzenstrahlung bei 365 nm
- Speziell für Nikon-i-Line-Mikrolithografiesysteme qualifiziert
- Sockel SFc27-7/35
- Kolbendurchmesser 55 mm, Gesamtlänge 254 mm
- Für langfristigen industriellen Einsatz konzipiert