Beschreibung
Osram HBO 2011W/NIL – Kurzbogenlampe, 2011 W, Sockel SFc27-7/35, für Nikon-i-line-Systeme
In Nikon-i-line-Belichtungsanlagen sorgt die Osram HBO 2011W/NIL für die notwendige UV-Lichtquelle bei der Wafer-Belichtung. Die Quecksilberdampf-Kurzbogenlampe leistet 2000 W und ist Teil der HBO-Baureihe für die industrielle Mikrolithografie.
Ihr Lichtbogen liefert eine hohe spektrale Intensität im UV-Bereich, die für reproduzierbare Belichtungsergebnisse benötigt wird.
Einsatzbereiche
Die Lampe ist für die Mikrolithografie vorgesehen und speziell für Nikon-i-line-Belichtungssysteme qualifiziert.
Vorteile im Alltag
Die spektrale Intensität erreicht ihren Spitzenwert bei 365 nm, wodurch die Lampe optimal auf i-line-Lithografieprozesse abgestimmt ist. Zudem ist sie auf eine langfristig stabile Betriebsleistung hin ausgelegt.
Technik in Kürze
Die HBO 2011W/NIL wird mit 25 V Nennspannung bei 80 A Lampenstrom betrieben und nimmt 2000 W auf. Bei 55 mm Durchmesser beträgt die Gesamtlänge 256 mm, der Lichtschwerpunktabstand liegt bei 107,75 mm. Das Nettogewicht beträgt 724 g, die angegebene Lebensdauer rund 1500 Stunden.
Kompatibilität und Hinweise
Die Sockelung erfolgt getrennt über Anode SFc27-7/35 und Kathode SFc27-12x1.5/35, ausgelegt für dafür vorgesehene Fassungen in kompatiblen Nikon-Belichtungssystemen.
Fazit
Die Osram HBO 2011W/NIL ist eine für Nikon-i-line-Systeme qualifizierte Kurzbogenlampe mit hoher UV-Intensität für den professionellen Einsatz in der Mikrolithografie.
Kurz zusammengefasst:
- 2000 W Leistungsaufnahme bei 25 V Nennspannung
- Hohe spektrale Intensität mit Schwerpunkt bei 365 nm
- Qualifiziert für Nikon-i-line-Mikrolithografiesysteme
- 256 mm Gesamtlänge bei 55 mm Durchmesser
- Rund 1500 Stunden angegebene Lebensdauer